Alumínium-nitrid szubsztrát alkalmazása
Magas hővezető képessége és kiváló elektromos szigetelése miatt az AlN-t a mikroelektronikai iparban használták.
A felületi oxidáció a levegőben még szobahőmérsékleten is megtörtént, azonban az alumínium-oxid réteg 1370 C-ig képes megvédeni az anyagot. Léteznek olyan fémezési eljárások, amelyek lehetővé teszik az alumínium-nitridnek az alumínium-oxidhoz és a berillium-oxidhoz hasonló elektronikai alkalmazásokhoz való felhasználását.
Az alumínium-nitrid kerámia keménysége még a hagyományos műszaki kerámiánál is nagyobb, így ideális anyag a jó kopásállóságot igénylő alkalmazásokhoz.
Az AlN Ceramic előnyei
* Very high thermal conductivity (>170 W/mK)
* High electrical insulation capacity (>1.1012Ωcm)
* Strength according to the double ring method >320 MPa (biaxiális szilárdság)
* Alacsony hőtágulás 4-től 6x10-ig-6K-1(20 és 1000 fok között)
* Jó fémezési kapacitás
